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勻膠機，旋涂儀其工作原理是高速旋轉(zhuǎn)基片, 利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上, 厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數(shù)而不同, 也和旋轉(zhuǎn)速度及時間有關(guān)。

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負性光刻膠 （SU-8）-光刻機用 SNR負性光刻膠，針對微機械加工微電子應(yīng)用，高對比度，環(huán)氧樹脂類負性光刻膠。 具有垂直側(cè)壁的高縱橫比成像 近紫外（350-400nm）處理 單旋涂膜厚度為1.5至200µm 高度耐化學(xué)性和耐溫度性 與已建立的SU-8光刻工藝兼容

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